金屬掩膜板精密加工濺射掩膜版非標定制標定掩模板高精加工

華諾激光專(zhuān)業(yè)定做掩膜版 mask 金屬掩模板 不銹鋼掩膜版 ，主要適合于高校、科研所、高科技公司的實(shí)驗室使用，也適合于工廠(chǎng)批量生產(chǎn)，掩模板可以應用于電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā)，磁控濺射等真空鍍膜設備中，用來(lái)制備OTFT、OPV、OLED、鈣鈦礦太陽(yáng)能電池，光電探測器，場(chǎng)效應晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。由于都是定制的產(chǎn)品，具體價(jià)格需要發(fā)圖紙確認后，才能正式報價(jià)。光刻掩膜版（又稱(chēng)光罩，英文為Mask Reticle），簡(jiǎn)稱(chēng)掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構，再通過(guò)曝光過(guò)程將圖形信息轉移到產(chǎn)品基片上。不銹鋼掩模板是以不銹鋼材料為基板生產(chǎn)的掩模板，此掩模板的特是平整度好、精度高、金屬硬度高可以反復使用，適用于蒸鍍線(xiàn)路、電極、芯片層等。受高校研發(fā)部門(mén)、科研所喜愛(ài)。芯片掩模板用于芯片線(xiàn)路蒸鍍使用，優(yōu)質(zhì)的材料再結合本公司多年生產(chǎn)經(jīng)驗，制造的掩模板平整度高、精度高，利于掩模圖像的轉移，適合芯片生產(chǎn)廠(chǎng)家和高校實(shí)驗室。電極掩模板是一款精度在10微米以?xún)鹊慕饘傺谀０?，該掩模板的特點(diǎn)是高精度、高平整度、高硬度、受熱變形量小等，集眾多優(yōu)點(diǎn)于一身，受到廣大院校和研究所好評。